合成抗菌药过程中不符要求的工艺杂质结构确认

合成抗菌药过程中不符要求的工艺杂质结构确认

      化学合成类药物的工艺杂质一般包括原料、中间体、化工试剂、配体、催化剂、副产物以及生产过程中的降解产物等，因经历与药物分子相同的合成过程，其结构组成与药物十分相似。喹诺酮类是一类人工合成抗菌药，我们生活中耳熟的如诺氟沙星、氧氟沙星等都属于该类药物，被广泛应用于胃肠疾病，以及呼吸道、皮肤组织的革兰阴性菌感染的治疗。

      该合成药物中环丙羧酸的质量直接决定了最终质量，因此环丙羧酸原料的杂质分析与控制非常重要，微源检测实验室查阅文献资料结合制备液相与核磁共振技术确定了环丙羧酸原料中未知杂质的结构。

高效液相色谱：Agilent，色谱条件如下：

药物样品的HPLC图
      在室温下按色谱条件比例流动相进行等度洗脱得到药物合成中产生杂质，所得杂质经浓缩、脱盐和干燥后用于离线的质谱及核磁实验。得到正离子模式下质谱数据杂质1-1的分子量为263、元素组成分别是C13H10FNO4，与环丙羧酸的组成(C13H9CIFN03)相比碳数相同，只含一个卤素原子，且多了一个OH。推测为环丙羧酸原料中的未知杂质是因卤素原子被OH取代产生。

      核磁共振光谱仪BrukerAdvance(1H—NMR、13C—NMR），C5D5N为溶剂。得到杂质的核磁共振谱图，推测的未知杂质结构得到进一步的确证。

      通过对环丙羧酸原料中的未知成分进行了检测分析，建立了环丙羧酸原料中杂质的分析方法，运用制备液相，并使用核磁共振技术上的核磁数据，相应产物离子的元素组成由高分辨质谱数据证实，该样品检测较为简单，如果需要更多的定性定量至少还需要在电喷雾质谱负离子模式下进行了离线的多级质谱实验、其他样品增加红外光谱、紫外光谱、比旋度、热分析等方法。