二次离子质谱（SIMS）检测概述:

       二次离子质谱（SIMS） 是一种具有超高灵敏度和分辨率的固体表面分析技术。它几乎能够分析任何真空下稳定的固体，从H到U的全元素及同位素分析，检出限达到ppm~ppb级别。

       按照扫描方式以及离子束种类，SIMS技术可以分静态SIMS（SSIMS）和动态SIMS（DSIMS）两种。适用不单是元素，还能分析原子团、官能团、分子信息，而适用于有机物的分析。SIMS技术目前主要用于半导体行业，但也逐渐扩展到材料、化学、生物医药、地质矿物等各个领域。各种应用场景基本如下：

       1.  鉴别金属、玻璃、陶瓷、薄膜或粉末表面上的无机物层或有机物层
       2.  氧化物表层、腐蚀膜、沥滤层和扩散层沿深度的浓度分布
       3.  经扩散或离子注入到半导体材料中的微量掺杂剂(≤1000ppm)沿深度的浓度分布
       4.  矿物质、多相陶瓷和金属中的相分布

       杭州微源检测提供德国ION-TOF的先进TOF-SIMS仪器检测服务，可以为客户提供完善的SIMS技术解决方案。以下是参考分析方法：

       ASTM E1078-2009表面分析中试样制备和安装程序的标准指南
       ASTM E1504-2011次级离子质谱(SIMS)测定中质谱数据报告的标准规范
       ASTM E1829-2009 先于表面分析的样品处置标准指南